华科院。
半导体研究所。
三楼大会议室。
又被称为专家会议室。
但凡所内出现什么重大事项。
都会召集各个专家教授们来此进行决议。
这天下午两点半。
明明是各个项目组紧锣密鼓开展研究的时刻。
负责EUV技术难关攻克的李智李主任。
同时也是研究所的副所长。
却突然召集各个项目组的资深专家们。
前来专家会议室开会。
由于时间定的比较仓促。
电话里没能说清楚。
许多赶到附近的专家们。
对此都是一头雾水：
“老王啊，李所长叫我们过来开会做什么？”
“难道是EUV的商用有了新的突破？”
“不可能吧，EUV商用的难题那么多。
就算翻过了一个山头。
还有无数个山头在远处等着。
更别说还有西方的专利壁垒。
哪能那么容易解决？”
“我猜也是啊。
估计十年过后勉强能看到点希望。
现在关于EUV的商用暂时就不用多想了。
话说回来，你们的EBL光刻机研究得怎么样了？”
“还是老问题。
EBL光刻机虽然能达到5nm的制程。
但是生产芯片的速度太慢太慢了。
实验室里在15mm硅片上定义一个图形。
EBL需要8小时。
EUV只需要8秒钟。
就算我们稍微提升了一点曝光速度。
这也完全比不过啊。
难怪当年国外都放弃了EBL这条路线。”
“唉，说到这个，我们也是啊。
NIL不具备大规模可靠的制备产品的能力。
应用场景十分狭窄。
即便投入那么多精力研究。
最多也就只能将量产成本降到目前的三分之一。
想要取代EUV几乎是不可能的事。”
“只能说EUV不愧是当下最先进的光刻技术。
即便想要走其他路线弯道超车。
恐怕绝大多数也是以死路为结局。”
“毕竟那是十几个国家的共同科研成果。
我们现在是在以一己之力对抗整个西方。
说是蚍蜉撼树也不为过。
大不了就再忍个十几年。
用时间换技术。
一步一步挪过去。
早晚我们会把EUV琢磨透。”
“也就只能这样了。”
.....................
专家们摇摇头。
彼此一脸无奈的走进会议室。
很快，偌大的会议室便坐满了上百位资深专家们。
这些专家，每一个都是圈内赫赫有名的技术大牛。
光靠科研成果都能被那些科技公司聘请为首席科学家。
等到专家们全都汇聚一堂。
坐在首位的李智李副所长，冲众人点点头。
转而以一副笑呵呵的表情说道：
“在座各位主要都是从事和光刻机有关的研究。
尤其是对当下极为先进的EUV光刻机，了解颇深。
因此今天让大家过来都是看中了你们的专业能力。
就在刚刚，我拿到了几张EUV的设计图纸。
这几张设计图采用了和阿斯麦完全不同的技术路线。
在这里将展现给大家看看。
希望大家多做研究和批判。”
说着，李智打开了投影仪。
苏墨展现的那几张设计图立刻便被放大投影在屏幕上。
看到屏幕上的设计图。
场上的专家们全都是面面相觑。
崭新的技术路线？
这怎么可能？
专家们全都拿起电脑和纸笔验证起来。
而经过了一连串的验证之后。
很快便有专家震惊的喊道：
“这条设计路线竟然真的可行！！”
这声惊呼宛如打开了议论的阀门一般。
场上立刻掀起无数的议论声：
“技术原理没问题，确实可行！”
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