盛夏1981
东院的枣树
公司现在研发的半导体设备,就是第三代光刻机。
在这里,有必要介绍一下光刻机的发展历程。
首先是光刻机的代际划分,其实是按光源算的,波长越短越先进。第一二光刻机分别是接触、接近式光刻机,光源...
本章完